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技术中心成功研制出低钨高纯氧化钼
作者:厉学武 日期:2019年04月02日 00:00 人气:

      近日,技术中心科研团队经过技术攻关,攻克钨钼分离关键技术,成功制备出了钨含量低于30ppm高纯氧化钼。该产品的成功研制,标志着公司钼提纯技术有了实质性突破,也为进一步超高纯Mo的研制成功打下坚实基础。

  低钨高纯氧化钼是制备超高纯Mo的原料。超高纯Mo广泛应用于电子、纳米技术、检测分析等领域。长期以来,由于钨钼性质相似,分离困难,致使高纯氧化钼中钨含量维持在100ppm左右。技术中心团队通过研究钨、钼物理化学性质和钨、钼化合物物理化学性质及其化合物之间相互转化的基本规律,运用钨、钼化合物之间转化规律差别,精准控制氧化钼制备参数,成功制备出了钨含量低于30ppm的高纯氧化钼。

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